公司产品

嘉芯迦能PHOEBUS PVD

嘉芯迦能自主研发的PHOEBUS PVD系统是一种全自动集群式PVD(物理气相沉积)设计用于容纳多个沉积室的系统,能够精确控制过程并进行高水平通过创造超高真空(10E-8 torr)的环境并控制各种变量过程,采用真空溅射薄膜沉积工艺。应用于半导体8吋晶圆金属薄膜的沉积,通过离子轰击金属靶材,使其沿着一定方向脱落沉积于衬底上。例如Al, Cu, Ti, TiN, Ta等金属薄膜工艺。其主流的工艺腔体对接设计,可以增加用户选择的灵活性,可根据工艺需求来选择不同配置的腔体。

了解更多
公司产品

嘉芯迦能PX-600NTS

PX-600NTS等离子分解水洗设备,是㇐台能够分解半导体制程中所产生的有毒气体。在半导体制程中所使用的气体或在制程中所产生出来的气体多半为有毒气体,因此必须将那些气体利用热分解及洗涤的方式将其分解后才可排出到空气中。在半导体制程中会排出很多不同的气体, 而这些各式各样的气体应经过适当的分解处里。

了解更多
新闻中心

为您提供第一手资讯

更多新闻中心点击查看 >
关于我们

嘉芯半导体

嘉芯半导体成立于2021年4月,是一家在各级政府大力支持下,由知名上市公司万业企业(SH 600641)和国际顶级技术团队联合创办的集成电路前道设备的平台型公司。


公司控股股东万业企业专注于开拓国内集成电路设备领域市场,近年来通过“外延并购+产业整合”双轮驱动,陆续收购凯世通、Compart Systems,并成立嘉芯半导体,打造“1+N”设备平台战略,持续加大集成电路在公司整体业务中的比重。目前,嘉芯半导体旗下拥有嘉芯迦能子公司、嘉芯禾凯子公司和新产品研发部等,已形成多个半导体前道核心设备产品线,业务覆盖刻蚀、薄膜沉积、快速热处理等多类主制程设备以及尾气处理等支撑制程设备。未来,公司将继续拓展相关业务部门,为公司与产业发展注入更多活力。