嘉芯迦能自主研发的PHOEBUS PVD系统是一种全自动集群式PVD（物理气相沉积）设计用于容纳多个沉积室的系统，能够精确控制过程并进行高水平通过创造超高真空（10E-8 torr）的环境并控制各种变量过程，采用真空溅射薄膜沉积工艺。应用于半导体8吋晶圆金属薄膜的沉积，通过离子轰击金属靶材，使其沿着一定方向脱落沉积于衬底上。例如Al, Cu, Ti, TiN, Ta等金属薄膜工艺。其主流的工艺腔体对接设计，可以增加用户选择的灵活性，可根据工艺需求来选择不同配置的腔体。