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嘉芯迦能PHOEBUS PVD
嘉芯迦能自主研发的PHOEBUS PVD系统是一种全自动集群式PVD(物理气相沉积)设计用于容纳多个沉积室的系统,能够精确控制过程并进行高水平通过创造超高真空(10E-8 torr)的环境并控制各种变量过程,采用真空溅射薄膜沉积工艺。应用于半导体8吋晶圆金属薄膜的沉积,通过离子轰击金属靶材,使其沿着一定方向脱落沉积于衬底上。例如Al, Cu, Ti, TiN, Ta等金属薄膜工艺。其主流的工艺腔体对接设计,可以增加用户选择的灵活性,可根据工艺需求来选择不同配置的腔体。
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嘉芯迦能PX-600NTS
PX-600NTS等离子分解水洗设备,是㇐台能够分解半导体制程中所产生的有毒气体。在半导体制程中所使用的气体或在制程中所产生出来的气体多半为有毒气体,因此必须将那些气体利用热分解及洗涤的方式将其分解后才可排出到空气中。在半导体制程中会排出很多不同的气体, 而这些各式各样的气体应经过适当的分解处里。
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